帶有熱管的新型CVD反應器的設計和研究.pdf

1、在多晶硅產業(yè)中，硅烷法作為生產電子級高純多晶硅的新型方法有著改進西門子法所不具備的優(yōu)點：硅烷的分解溫度較低、能耗少、硅烷作為原料氣容易提純、產出的多晶硅純度高、原料氣中硅的質量分數(shù)高（w=87.5％）、硅烷消耗少等，是一種非常有發(fā)展前景的新工藝。但是硅烷法在生產高純度多晶硅面臨的一個主要問題是多晶硅還原爐內局部溫度過高（T>400℃），容易產生粉末硅污染硅棒，影響硅棒質量品質，不能夠達到電子級高純多晶硅的要求。
　　本文主要研究開

2、發(fā)一種新型的多晶硅還原爐，以彌補傳統(tǒng)反應器的不足之處。新型多晶硅還原爐是在傳統(tǒng)多晶硅還原爐的基礎上進行設計和開發(fā)的，對傳統(tǒng)多晶硅還原爐主要做了以下三點改進：（1）在硅棒周圍增設了外壁面高度拋光的熱管；（2）爐膛內部中央出氣口處增設了導流筒；（3）增加了內插進氣口。本文的研究重點是研究新型還原爐內的流場及溫度場規(guī)律。對新型還原爐的模擬研究發(fā)現(xiàn)：導流筒對還原爐頂部氣體起到了收集和導出的作用；熱管結構的加入也對爐內氣體的流動起到限制與引導的作